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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

河合晃監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2024.8. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 840 . エレクトロニクスシリーズ). <BW04320015>
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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

河合晃監修. -- 普及版. -- シーエムシー出版, 2024.8. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 840 . エレクトロニクスシリーズ). <BW04320015>
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No. 巻号 配架場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 三田４Ｆ図書 624.9:2145 0075717967 0件
No. 0001
巻号
配架場所 三田４Ｆ図書
請求記号 624.9:2145
資料ID 0075717967
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 / 河合晃監修
サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
版次 普及版
出版事項 東京 : シーエムシー出版 , 2024.8
形態 viii, 320p : 挿図 ; 26cm
シリーズ名等 CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BW03006314> 840 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ//a
巻号情報
ISBN 9784781317748
その他の標題 標題紙タイトル:Advanced technologies for functional resist materials and process optimization
注記 2017年刊の普及版
注記 文献: 章末
注記 背に「TL840」とあり
注記 奥付・背・裏表紙に「B1438」とあり
NCID BD08208554
本文言語 日本語
著者標目 河合, 晃||カワイ, アキラ <AU00476582>
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
分類標目 電子工学 NDC10:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイ ジュシ
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