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クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

山田公編著. -- 日刊工業新聞社, 2006.10. <BW03295862>
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クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

山田公編著. -- 日刊工業新聞社, 2006.10. <BW03295862>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 配架場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 三田４Ｆ図書 624.9:1370 0072613466 0件
No. 0001
巻号
配架場所 三田４Ｆ図書
請求記号 624.9:1370
資料ID 0072613466
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術 / 山田公編著
クラスター イオン ビーム キソ ト オウヨウ : ジセダイ ナノ カコウ プロセス ギジュツ
出版事項 東京 : 日刊工業新聞社 , 2006.10
形態 xi, 223p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4526057657
NCID BA79102802
本文言語 日本語
著者標目 山田, 公||ヤマダ, イサオ <AU00300958>
分類標目 電子工学 NDC8:549.1
分類標目 電子工学 NDC9:549.1
件名標目等 イオンビーム||イオンビーム
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