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フォトポリマーの基礎と応用

山岡亜夫監修. -- シーエムシー出版, 2003.3. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 136). <BW03083038>
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山岡亜夫監修. -- シーエムシー出版, 2003.3. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 136). <BW03083038>
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No. 巻号 配架場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 三田４Ｆ集密図書 678:198 0071934103 0件
No. 0001
巻号
配架場所 三田４Ｆ集密図書
請求記号 678:198
資料ID 0071934103
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 フォトポリマーの基礎と応用 / 山岡亜夫監修
フォトポリマー ノ キソ ト オウヨウ
出版事項 東京 : シーエムシー出版 , 2003.3
形態 vii, 336p ; 21cm
シリーズ名等 CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BW03006314> 136//a
巻号情報
ISBN 4882317877
その他の標題 標題紙タイトル:Proceses and applications of photopolymers
その他の標題 その他のタイトル:実用高分子レジスト材料の新展開
ジツヨウ コウブンシ レジスト ザイリョウ ノ シンテンカイ
注記 「実用高分子レジスト材料の新展開」 (シーエムシー出版 1997年刊) の再版
注記 普及版
NCID BA61571778
本文言語 日本語
著者標目 山岡, 亜夫(1939-)||ヤマオカ, ツグオ <AU00231064>
分類標目 高分子化学工業 NDC8:578.4
分類標目 高分子化学工業 NDC9:578.4
件名標目等 感光性樹脂||カンコウセイジュシ
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