関西学院大学図書館
  • 目録検索 目録検索 ▼
  • 利用者サービス 利用者サービス ▼
    • 利用状況の確認
    • ブックマーク
    • お気に入り検索
    • 新着アラート

関西学院大学図書館

検索結果一覧へ戻る

PVD for microelectronics : sputter deposition applied to semiconductor manufacturing

Ronald A. Powell, Stephen M. Rossnagel. -- Academic Press, 1998. -- (Thin films ; v. 26). <BY00345591>
便利機能：
目次・あらすじを見る 詳細情報を見る
このページのURL：

PVD for microelectronics : sputter deposition applied to semiconductor manufacturing

Ronald A. Powell, Stephen M. Rossnagel. -- Academic Press, 1998. -- (Thin films ; v. 26). <BY00345591>
便利機能：
目次・あらすじを見る 詳細情報を見る
このページのURL：

所蔵一覧 1件～1件（全1件）

ナンバーをクリックすると所蔵詳細をみることができます。

No. 巻号 配架場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 三田４Ｆ図書 539.2:P57:26 0002729424 0件
No. 0001
巻号
配架場所 三田４Ｆ図書
請求記号 539.2:P57:26
資料ID 0002729424
状態
返却予定日
予約 0件
このページのTOPへ
このページのTOPへ

書誌詳細

標題および責任表示 PVD for microelectronics : sputter deposition applied to semiconductor manufacturing / Ronald A. Powell, Stephen M. Rossnagel
出版事項 Boston, Mass. : Academic Press , 1998
形態 xiii, 419 p. ; 24 cm
シリーズ名等 Thin films <BY00068726> v. 26//a
巻号情報
ISBN 012533026X
注記 Includes index
NCID BA38746553
本文言語 英語
著者標目 *Powell, Ronald A. <>
著者標目 Rossnagel, Stephen M. <>
分類標目 LCC:TK7872.T55
分類標目 DC21:621.3815/2
件名標目等 Thin film devices -- Design and construction
件名標目等 Vapor-plating
件名標目等 Thin films
このページのTOPへ
検索結果一覧へ戻る
このページのTOPへ

  • 関連情報

    関連資料

    他の検索サイトで探す

    他大学資料確認

    他機関から取り寄せる※有料

    • 文献複写申込み(コピー取り寄せ)
    • 図書貸借申込み(現物取り寄せ)