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Modeling of film deposition for microelectronic applications

edited by Stephen Rossnagel. -- Academic Press, c1996. -- (Thin films ; v. 22). <BY00078514>
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Modeling of film deposition for microelectronic applications

edited by Stephen Rossnagel. -- Academic Press, c1996. -- (Thin films ; v. 22). <BY00078514>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 配架場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 三田４Ｆ図書 539.2:P57:22 0001993765 0件
No. 0001
巻号
配架場所 三田４Ｆ図書
請求記号 539.2:P57:22
資料ID 0001993765
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 Modeling of film deposition for microelectronic applications / edited by Stephen Rossnagel
出版事項 San Diego ; Tokyo : Academic Press , c1996
形態 xiv, 291 p. : ill. ; 24 cm
シリーズ名等 Thin films <BY00068726> v. 22//b
巻号情報
ISBN 0125330227
注記 Includes bibliographical references and indexes
NCID BA28758239
本文言語 英語
著者標目 Francombe, Maurice H. <AU00070925>
著者標目 Vossen, John L. <AU00070927>
件名標目等 Thin films
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