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Plasma sources for thin film deposition and etching

edited by Maurice H. Francombe, John L. Vossen. -- Academic Press, c1994. -- (Physics of thin films : advances in research and development ; v. 18). <BY00063695>
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Plasma sources for thin film deposition and etching

edited by Maurice H. Francombe, John L. Vossen. -- Academic Press, c1994. -- (Physics of thin films : advances in research and development ; v. 18). <BY00063695>
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No. 巻号 配架場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 三田４Ｆ図書 539.2:P57:18 0001355221 0件
No. 0001
巻号
配架場所 三田４Ｆ図書
請求記号 539.2:P57:18
資料ID 0001355221
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 Plasma sources for thin film deposition and etching / edited by Maurice H. Francombe, John L. Vossen
出版事項 San Diego ; Tokyo : Academic Press , c1994
形態 xii, 328 p. : ill. ; 24 cm
シリーズ名等 Physics of thin films : advances in research and development <BY00013893> v. 18//a
巻号情報
ISBN 0125330189
注記 Includes bibliographical references and indexes
NCID BA23592456
本文言語 英語
著者標目 Francombe, Maurice H. <AU00070925>
著者標目 Vossen, John L. <AU00070927>
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